品牌 | 其他品牌 | 產地 | 進口 |
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產品新舊 | 全新 | 放大倍率 | 200,000x |
分辨率 | 8nm | 加速電壓 | 4.8kV-20.5kV |
飛納桌面電鏡 臺式大倉室自動化掃描電鏡
Phenom XL G3 質量控制自動化,多功能臺式掃描電鏡
80 年電鏡技術傳承
從飛利浦、FEI到賽默飛,源自全球電鏡的成熟設計與制造工 藝,穩定可靠
無需改實驗室 - 省錢省空間
不挑安裝環境,內置減震系統,可直接放置于生產車間、高樓層 QC實驗室等
面向工業 4.0 的自動化與 AI 智能掃描電鏡
開放編程接口,打造定制化的“黑燈實驗室"檢測流程,支持 Maps 地 圖式多模態、多維度自動拼圖及關聯
平均 5 年更換燈絲
3000h CeB6 晶體燈絲,減少維護頻率和降低使用成本,讓產線 或實驗室長期穩定運行無憂
低電壓成像功能
對于不導電、導電性差、以及電子束敏感樣品,不噴金,仍具有成像能力
電鏡能譜一體化設計 - 服務全包,省心省力
簡化采購流程,統一售后服務。軟件和硬件深度兼容,無需切換軟件。 ChemiSEM彩色成像,實時能能譜面掃、相分析、大面積能譜拼圖等
80 年電鏡技術傳承
飛納電鏡從飛利浦到賽默飛,歷經近 80 年技術沉淀,從最初的構想與商業化,到不斷的技術創新與突破,始終在電子顯微鏡領域保 持領(LING)先地位。
1 飛利浦時期(1939-1996)
起源:1939 年,Le Poole 提出電子顯微鏡構想,1944 年成功開發 150kV 電子顯微鏡,奠定技術基礎。
發展:1949 年推出第一臺商業化電鏡 EM100。后續不斷推出創新產品,如 1972 年進入 SEM 市場,推出 PSEM500。
2 FEI 時期(1996-2016)
合并:1997年,飛利浦電子光學業務與FEI合并,獲得 ESEM 技術,技術實力增強。
創新:2006年推出臺式掃描電鏡飛納(Phenom),放大倍數 10000 倍,使用 1500h 長壽命 CeB6 燈絲。
2013 年推出第三代產品,分辨率 17nm,放大倍數 100000 倍。
3 賽默飛時期(2016-至今)
收購:2016 年,FEI 被賽默飛收購,2018 年 Phenom World 更名為 Thermo Scienti?c 品牌。
傳承與發展:技術上繼承 FEI 創新成果,繼續提升性能,目前除了 CeB6 燈絲系列,還有臺式場發射電鏡系列,公安法醫等 特定領域專用電鏡,產品線豐富,型號達數十種。
平均 5 年更換燈絲
桌面電鏡 臺式大倉室自動化掃描電鏡擁有超長壽命核心部件,采用 3000 小時高亮度六硼化鈰(CeB6)燈絲,平均 5 年更換燈絲,確保設備 7×24 小時連續運行,減 少維護頻率和持有成本,讓產線或實驗室長期穩定運行無憂。
不挑安裝環境,內置減震系統,可直接放置于生產車間、高樓層 QC 實驗室等,甚至可以車載,野外場景使用。節省實驗室改造 費用,真正做到“買得起,更能用得好"。
飛納電鏡曾經參與冰島火山口、西班牙無人島等科學研究項目,是適用于惡劣環境的便攜掃描電鏡??蒲腥藛T采集樣本回到帳篷 中,利用飛納電鏡來確定樣本的化學構成,極大地提高了樣本采集和分析的效率。
低電壓成像功能
PhenomXL G3 配備了全新升級真空設計和背散射探測器 (BSD),優化了低電壓下的靈敏度,提升了總體的信噪比 (S/N),對于不 導電、導電性差、以及電子束敏感樣品,可以使用更低的束流進行拍攝,提升分辨率的同時,降低荷電效應帶來的影響。
由于整體信噪比的提升,我們可以使用更短的采集時間采集同樣質量的照片,在自動化工作流程中,高通量照片拍攝的總效率平均提升 30%。
太陽能電池金字塔結構
放大倍數:10,000X
2kV,未噴金,二次電子像
可以清晰看到金字塔結構和細節
電子陶瓷
放大倍數:1,000X
5kV,背散射電子像
可以觀測到陶瓷內晶粒大小和空隙
CMOS 探測器
放大倍數:5,000X
2kV,二次電子像
可以清晰看到像素單元及其表面污染物
掃描電鏡下未噴金的纖維(上圖),未噴金的紙張(下圖)
面向工業 4.0 的自動化與 AI 智能掃描電鏡
從裝樣到出圖,僅需 1 分鐘,高測試效率,操作員無需漫長等待,檢測通量比傳統電鏡提升 5-10 倍,極大加速了 QC 判斷和研發迭代。
強大的拓展軟件
從“看"到“算":專業的自動化分析軟件,ParticleMetric (顆粒統計)、Fiber- Metric (纖維統計) 等專用軟件。自動化完成需要人工數小時才能完成的顆粒 度、形貌、尺寸分布等統計工作,輸出標準化報告,實現真正的量化品控。
開放編程接口,打造定制化檢測流程
“深度集成,隨需而變":開放的自動化接口,提供 Python 腳本控制 (PPI),可以無 縫集成到客戶現有的自動化產線和 LIMS 系統中。精準的自動化馬達臺,結合軟件 腳本,一次可容納 36 個樣品,打造“無人值守的質檢工廠",自定義設定程序,在夜 間或休息時間對大批量樣品進行自動拍照和分析,提高設備利用率。
一 張圖看全貌,多點分析無遺漏
在晶圓、濾膜、金屬斷口等大樣品上,自動獲取全景高清圖,并對預設的關鍵點位進行高倍率分析,確保檢測。
電鏡能譜一體化設計 - 服務全包,省心省力
簡化采購流程,統 一 售后服務。軟件和硬件深度兼容,無需切換軟件,提高研究效率。ChemiSEM彩色成像,實時能能譜面掃、相分 析、大面積能譜拼圖等
ChemiSEM 彩色成像技術
EDS 能譜儀在電鏡工作時始終在后臺收集成分數據,利用算法同時處理 BSE 和 EDS 信號,從而可以實時顯示樣品的形態和定量元素分布結果。簡化對金屬、陶瓷、 電池、涂層和軟材料等多種材料的復雜分析。
ChemiPhase 物相分析軟件
飛納電鏡 ChemiPhase 物相分析軟件是 ChemiSEM 技術中一種新型物相鑒定和定 量表征手段,旨在通過結合先進的統計分析和 ChemiSEM SEM-EDS 平臺來識別物相,并識別成分列出其面積分數,從而應對這些挑戰。
Phenom MAPS 大面積圖像拼接
通過層級的方式,實現對樣品的拍攝與數據回看。Phenom MAPS 提供的是一個涵 蓋所有樣品信息的數碼存檔,從宏觀到微觀無所不包,變革了傳統掃描電鏡的 分析與數據存儲模式。并且,多圖層數據可以包含能譜。
從元素到材料的飛躍:相分布圖 (Phase Mapping)
專有的在線相分析軟件模塊 (Phase Mapping) ,利用強大的算法,根據每個像素點的元素定量結果,自動識別、分類并標定出不同的 “相"或“化合物"。
規格參數
成像模式
• 光學顯微鏡:放大倍數:3 - 16 x
• 電子顯微鏡:放大倍數:200,000 x
照明
• 光學:明場和暗場模式
• 電子光學:長壽命、高亮度的 CeB6 燈絲
• 加速電壓: 基本模式:2 kV, 5 kV, 10 kV, 15kV 和 20kV
高級模式:4.8 kV - 20.5 kV 連續可調,用 于成像和元素分析
• 真空水平:低-中-高三種模式 優于 8 nm
• 分辨率: 優于 8 nm
• 抽真空時間:30s